ODS系列高浓度高纯度臭氧输送系统为要求的半导体应用而设计。这个高度可靠的臭氧输送系统适合需求不同流量的高浓度臭氧的应用中。该臭氧输送系统整合，操作简单，能够方便的与绝大多数半导体机台联动，插入即可使用。该系统基于微处理器的控制器能够根据用户提供的设定值伺服控制臭氧输送。该臭氧输送系统包括多通道臭氧泄露探测器和带排气系统的外壳。全部的气体管线都有双重保险。
规格
规格
特征
高纯度水冷臭氧发生器，浓度达
350 g/Nm3
的高浓度监测仪
使用质量流量计监测和控制臭氧和
进气
完整的安全联锁和EMO系统
最多支持四个独立的伺服控制回路
19英寸柜机式外壳，顶端带有排气系
统，底端配有轮子
应用
化学气相沉积 (CVD)
原子层沉积 (ALD)
氧化物生长
表面处理
颗粒清洁
光刻胶去除
灰化
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